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影響氧化還原電位的主要因素有哪些?
更新時間:2020-05-20 點擊次數:4348
 
  氧化還原電位計就是用來反映水溶液中所有物質表現出來的宏觀氧化-還原性設計的儀器。
  氧化還原電位計是測試溶液氧化還原電位的儀器,由復合電極和mv計組成。復合電極是一種可以在其敏感層表面進行電子吸收或釋放的電極,該敏感層是一種惰性金屬,通常是用鉑和金來制作。參比電極是和pH電極一樣的銀/氯化銀電極。其中毫伏計也就是二次儀表與pH計的可通用。
  影響氧化還原電位的主要因素包括以下幾個方面。
  1)物質質量分數。在氧化還原反應過程中,電位與反應同步變化、進行。從還原反應方面分析,氧化態(tài)物質與還原態(tài)物質的活度狀態(tài)分別是變小和變大,因此電位的變化狀態(tài)是由高至低,氧化反應方面過程則相反。實際上,廢水中污染較為嚴重的成分質量分數較低,基本接近離子活度,通常情況下可直接用濃度表示氧化態(tài)和還原態(tài)物質的活度[2]。
  2)酸堿度(pH值)。氫離子與氫氧根離子均參與方程式反應,兩者分別對應的是還原與氧化反應,各自所對應的污染物是六價鉻。因此,當pH值產生變化時必然也會影響電位。
  3)其他復雜電對。電鍍工業(yè)廢水由多種成分構成,不同的電對會以混合電位的形式存在。因此如果廢水中包含除主要污染物之外的其他氧化還原
  成分,整個反應體系反應過程會變十分復雜,電位的檢測結果同一般能斯特方程規(guī)律也會不盡相符,在具體反應的過程中應根據實際情況加以嚴格修正。

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